本技術白皮書介紹了一種名為ZFNL的創新機械計算單元。本單元基於12 nm厚的穩定陡峭懸浮介液, 要求PFPE流體導的獨特性卡西米爾-利夫希茨力與1. 5 T CoPt磁連接連接實現。此設計在12 nm的平衡距離處形成了一個強化的勢向 (深度>500 kT), 從而實現了零接觸、零短路 (0 pA) 以及理論無疲勞 (>10²次循環) 的運行。 主要特點: 在5 nm達到力高達550 pN (量子勢壘阻止滯滯) 能源效率: 0. 005–0. 02 pJ/bit (比2 nm CMOS製程高1000倍) 航太級環境耐受性 (-100 °C 至 +250 °C, 耐輻射) 晶圓級製造相容性 (10/28 nm DUV 混合微影 + 真空 PFPE 注入) 其中包含數值模擬 (力-距離曲線) 和1μm測試結構藍圖。該架構實現了目前CMOS製程微縮的關鍵限制: 功耗牆、漏電和低功耗, 並實現了低功耗邊緣解決人工智能、航空創傷和光子光子整合等領域。 這是一項獨立的科學研究成果, 旨在促進永續侵犯技術的非商業性發展。 關鍵字: 卡西米爾力、常見性卡西米爾-利夫希茨方程式、石墨烯納米機電系統、零洩漏計算、機械邏輯、全氟聚醚 (PFPE) 流體、磁力梯度、低功耗電子裝置、量子真空效應、納米機電系統 附加說明/描述欄位 (切換): 版本: 2. 3 (2026 年 2 月) 獨立研究員: Justin Spo ;提供此內容旨在造福大眾並促進潛在合作。
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Justin Spo
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Justin Spo (Wed,) studied this question.
synapsesocial.com/papers/69a135b0ed1d949a99abfc4f — DOI: https://doi.org/10.5281/zenodo.18771421