Un enfoque de simulación rápida basado en datos para detectores basados en MAPS y su optimización

Se presenta una herramienta de simulación paramétrica para sensores de pixel. Se simula una respuesta realista del pixel basándose exclusivamente en datos experimentales, sin requerir un conocimiento detallado del proceso de fabricación subyacente. Como tal, proporciona una alternativa eficiente al uso de simulaciones de Technology Computer-Aided Design, que normalmente dependen de información propietaria del proceso. Debido a su enfoque paramétrico, el paquete es rápido y por tanto particularmente útil para sistemas de detectores más grandes y ambientes con alta tasa de impactos. Este trabajo presenta mediciones, simulación y su validación para el sensor MALTA2. Es un sensor de pixel activo monolítico con electrodo de colección pequeño producido en el proceso de imagen CMOS Tower 180nm Complementary Metal-Oxide-Semiconductor. Se estudian modificaciones en la periferia del sensor, principalmente en el combiner de impactos, con el fin de optimizar el desempeño para seguimiento y calorimetría. Esta optimización es de especial interés como parte del rediseño del sensor MALTA3 en el proceso Tower Partners Semiconductor Co. de 65nm.